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Zur Verifizierung des Modells wurden zwei Implantationen gemäß den
Vorgaben von Maszara und Rozgonyi durchgeführt:
-
-Ionen
-
: 150keV, 300keV
- D:
- Größe des Implantationsfenster:
- Wafer-Material: (100) Silizium
- Kippwinkel: 7
.
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Mon Dec 23 13:09:21 MET 1996