Projects Details
Simulation of Si-Ge Heterojunction Bipolar Transistors | |
Project Number | P14483 |
Principal Investigator | Siegfried Selberherr |
Scientists/Scholars | Vassil Palankovski |
Scientific Fields | 2521, Mikroelektronik, 50%
2939, Computerunterstützte Simulation, 20% 2524, Physikalische Elektronik, 20% 1140, Software-Engineering, 10% |
Keywords | silicon-germanium, semiconductor device/circuit simulation, heterojunction bipolar transistors, electro-thermal simulation, device modeling, device reliability |
Approval Date | 8. October 2000 |
Start of Project | 31. December 2000 |
End of Project | 29. June 2003 |
Additional Information | Entry in FWF Database |
Abstract |
Nowadays Heterojunction Bipolar Transistors (HBTs) attract much industrial interest. In particular, Silicon-Germanium (SiGe) HBTs exhibit promising properties stretching the intrinsic advantages of the established CMOS technology into high-frequency electronics. SiGe HBTs increasingly challenge the III-V (GaAs, InP, etc.) devices in the highest frequency ranges. The devices employ strained SiGe layers to achieve better performance. SiGe devices have seen a major development to industrial maturity in the recent five years, further extending the applicability of the Silicon technology towards higher frequencies. Major contributions come from Hitachi (Japan), IBM (USA), Infineon (Germany). The Austrian company austriamicrosystems AG has also attained a good position with these devices. |
Kurzfassung |
Heterostruktur-Bipolar-Transistoren (HBTs) sind zur Zeit für die Industrie von großem Interesse. Im Besonderen besitzen Silizium-Germanium (SiGe) HBTs sehr attraktive Eigenschaften, welche es erlauben die der etablierten CMOS Technologie inhärenten Vorteile für die Hochfrequenzelektronik zu nutzen. Mehr und mehr werden SiGe HBTs in den höchsten Frequenzbereichen zu einer echten Herausforderung für Bauelemente, die auf III-V (GaAs, InP, etc.) Halbleitermaterialien basieren. SiGe Bauelemente benutzen verspannte SiGe Schichten, um bessere Eigenschaften zu erreichen. Diese Bauelemente haben in den letzen fünf Jahren große Schritte in Richtung Industriereife gemacht und die Leistungsfähigkeit der Siliziumtechnologie für immer höhere Frequenzen erweitert. Wichtige Beiträge für diese Technologie kommen von Hitachi (Japan), IBM (USA), und Infineon (Deutschland). Auch die österreichische Firma austriamicrosystems AG hat eine gute Position mit diesen Baulementen erreicht. |
View Final Report |