8.1.1 Definition der Ätzmaske

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8.1.1 Definition der Ätzmaske

Durch einen lithographischen Schritt wird die Maske für die nachfolgende Grabenätzung erzeugt. Abb. 8.1 zeigt die resultierende Maske schematisch in Aufsicht und Schrägansicht. Aus Symmetriegründen kann man das Simulationsgebiet auf ein Viertel der Struktur reduzieren. Die Maskeninformation dient als Eingabe für den Ätzsimulator.

**Abbildung 8.1:** Grundriß und Schrägansicht der Ätzmaske. Zur Simulation des Ätzschrittes wird nur ein Viertelausschnitt verwendet.
$\begin{figure} \centerline{\resizebox {0.8\textwidth}{!}{\includegraphics{ex_etch.eps}} }\par\end{figure}$

**Abbildung 8.2:** Ansicht der diskretisierten Ausgangsgeometrie (links) und des durch Simulation des Ätzverfahrens entstandenen Grabens (rechts).
$\begin{figure} \centerline{ \begin{minipage}{0.49\textwidth} \psfrag{-1.25}{} ... ...dth}{!}{\includegraphics{etched_256_a.eps}} } \end{minipage}} \par\end{figure}$

Ernst Leitner
1997-12-30