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Ein Effekt, der stark mit dem SRH Prozeß zusammenwirkt, ist der Effekt des fehlstellenunterstützten Band zu
Band-Tunneln (TBB) [31]. Darunter versteht man eine von der Fehlstellenkonzentration abhängige Verstärkung
der SRH Rekombinations/Generationsraten, die durch das lokale elektrische Feld verursacht wird. Abbildung
5.1 zeigt die Energieverhältnisse der Raumladungszone. Man erkennt, daß das von der Fehlstelle emittierte
Elektron bei hohen Feldern nicht mehr die komplette Energiedifferenz zwischen dem Leitungsband und dem
Fehlstelleniveau überwinden muß, sondern nur noch den Anteil P-P'. Die restliche Energiebarriere wird auf der
Strecke P'-P'' durchtunnelt. Wechselt man von einem theoretischen Kastenpotential zu einem realistischeren
Coulombpotential, so wird die zu überwindende Energiebarriere weiter reduziert. Dieser Effekt wird als
POOLE-FRENKEL-Effekt bezeichnet [42].
Abbildung 5.1:
Energieverhältnisse des Leitungsbandes und der Fehlstelle in der Raumladungszone.
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Modelliert wird das fehlstellenunterstützte Band zu Band-Tunneln durch die sog. Feldfaktoren und . Die
Faktoren liefern einen Korrekturterm zu den Lebensdauern und in (4.26)
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(5.1) |
In MINIMOS-NT ist das fehlstellenunterstützte Tunnelmodell nach [70] und nach [33,57] implementiert.
Im Modell nach [70] hängen die Feldfaktoren nur von der lokalen Feldstärke E ab. Die Koeffizienten
und werden über die Tunnelwahrscheinlichkeiten errechnet. Ein wesentlicher Punkt des Modells
ist eine Fallunterscheidung, inwieweit der Tunnelvorgang bereits aus dem Grundzustand der Fehlstelle erfolgen
kann. Ist die Sperrspannung am pn-Übergang höher als die Bandkantendifferenz, so ist die Lösung des Tunnelmodells
grundsätzlich unterschiedlich von der Lösung niedriger Sperrspannungen. Bei niedrigen Feldern errechnen sich die
Faktoren zu
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(5.2) |
wobei
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(5.3) |
gilt.
Bei höheren Feldern erhält man
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(5.4) |
Die Ausdrücke für Eref und sind gegeben durch
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(5.5) |
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(5.6) |
mit
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(5.7) |
Für die Löcher wird der entsprechende Ausdruck ausgewertet, wobei
der äquivalente Ausdruck für Nt durch
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(5.8) |
zu ersetzen ist.
Das zweite nach [33,57] implementierte TBB Modell in MINIMOS-NT wird mit Hilfe der Multiphonontheorie
hergeleitet. Die genaue theoretische Herleitung ist in [57] angeführt. Ausgangspunkt des Modells ist
die Wechselwirkung der Gitterschwingungen (Phononen) mit den Ladungsträgern, die rekombiniert oder generiert werden.
Dabei muß die im Falle der Rekombination frei werdende Energie durch mehrere Gitterphononen absorbiert werden. Die
Wahrscheinlichkeiten, mit der solche Übergänge in Abhängigkeit der konstanten, lokalen Feldstärke
stattfinden, werden herangezogen, um die Feldfaktoren zu berechnen.
Als Ergebnis der Herleitung lassen sich die Feldfaktoren und ausdrücken als
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(5.9) |
Die Koeffizienten C1, C2, C3 haben die Einheit einer Energie. Sie bestimmen sich zu
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(5.10) |
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(5.11) |
wobei man die Größen durch
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(5.12) |
ausdrückt. Für C3 setzt man die effektive Phononenenergie
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(5.13) |
Das in MINIMOS-NT implementierte Modell für Silizium ist isotrop, d.h. die effektive Masse der Achsenrichtungen ist
gleichgesetzt mit . Eine weitere Näherung besteht darin, die effektiven Massen der
Löcher und Elektronen gleichzusetzten [57]. Dies resultiert aus einer Ungenauigkeit der Annahme der
effektiven Löchertunnelmasse. Setzt man das Energieniveau der Fehlstelle Et gleich dem intrinsischen Niveau, so
ergibt sich bei gleichem Energieabstand des Valenz- und Leitungsbandes vom intrinsischen Niveau, daß sich das
Fehlstellenenergieniveau in (5.11) und (5.9) zu Et,ref=Eg/2 errechnet. Die Größe Et,ref
gibt dabei den charakteristischen Energieabstand des Leitungs- bzw. Valenzbandes zum Fehlstellenniveau an. Im
allgemeinen Fall errechnet sich Et,ref für Elektronen zu
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(5.14) |
Der äquivalente Ausdruck für Löcher lautet
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(5.15) |
Bei hohen Feldern kann die Übergangsenergie E0 (5.11) negative Werte annehmen. Numerisch kann man das
Problem dadurch umgehen, daß man das maximale elektrische Feld bei einer bestimmten Gittertemperatur begrenzt.
Die Abbildung 5.2 zeigt die Feldfaktoren und bei unterschiedlichen Gittertemperaturen.
Bemerkenswert ist der starke Anstieg der Feldfaktoren bei abnehmender Temperatur.
Abbildung 5.2:
Feldfaktoren für Silizium bei 200K, 300K und 500K in Abhängigkeit des Feldes. Das Fehlstellenenergieniveau ist gleich dem intrinsischen Niveau. Das Modell entspricht der Gleichung 5.9.
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Die Generation von Ladungsträgern in Raumladungszonen ist wesentlich von der Fehlstellendichte bestimmt, die in die
Lebensdauern und eingeht. Oft werden moderne Halbleiterbauelemente jedoch möglichst defektfrei
hergestellt, um Leckströme zu minimieren. Die Folge ist, daß die fehlstellenunterstützte Generation im Bereich hoher
Felder durch den Effekt des direkten Band zu Band-Tunnelns überlagert wird.
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Martin Knaipp
1998-10-09