Durch chemische Reaktionen der an der Grenzfläche aufeinandertreffenden verschiedenen Materialien kommt es zur Produktion verschiedener Teilchenarten. Als Beispiel sei die thermische Oxydation angeführt. Dabei bindet sich der durch das Oxyd diffundierende Sauerstoff an der Grenze zum Silizium mit diesem zu Siliziumdioxyd. An der Grenzfläche werden nun durch das Herausreißen von Siliziumatomen, die sich mit dem Sauerstoff verbinden, auch andere Siliziumatome freigesetzt, welche dann in Form von Interstitials diffundieren können. Während diese im Oxyd durch den hohen Sauerstoffüberschuß schnell oxydieren, dringen sie im Silizium tief in das Substrat ein und beeinflussen dort die Diffusionsvorgänge wesentlich in Form von Diffusionsbeschleunigung (oxidation enhanced diffusion: OED) oder Diffusionsunterdrückung (oxidation retarded diffusion: ORD).
Der durch die Oxydation der Grenzschicht enstehende Interstitial-Strom in das Silizium wird
proportional zur Normalgeschwindigkeit 
der Grenzschicht und der Generationsrate
gesetzt [Fah89] [Tan82]:
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