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Theorie der Störstellenstreuung Up: 1.4
Streumechanismen in unpolaren Halbleitern Previous: 1.4.1.2
Optische Zwischentalstreuung
Der Coulomb-Anteil des gesamten Hamilton-Operators zur Beschreibung der
Elektron-Elektron Wechselwirkung kann durch Einführung eines Grenzwellenvektors
in zwei Teile aufgespalten werden: einen kurzreichweitigen Term, der die
binäre Elektron-Elektron Streuung beschreibt und einen langreichweitigen
Term, der die Streuung eines Elektrons am gesamten Eletronengas beschreibt
[PSB96].
gibt den minimalen Wert für Landau-Dämpfung der Plasmonen an,
für Wellenlängen länger als etwa
existieren kollektive Schwingungen des Plasmas, während darunter die
Plasmonen stark gedämpft werden und in Einteilchen-Anregungen zerfallen,
die mit einem abgeschirmten Coulomb-Potential wechselwirken [RH86].
Die inelastische Streuung von Elektronen an kollektiven Schwingungen des
Löchergases wird besonders im Fall von p-dotierten Halbleitern
wichtig.
Ein elegantes mathematisches Hilfsmittel zur allgemeinen Beschreibung
von schwingungsfähigen Systemen stellt nun die Einführung von
quantisierten Eigenschwingungen dar, durch die ein oszillierendes System
vollständig beschrieben werden kann. Schon im vorigen Abschnitt konnte
die Beschreibung von Kristallschwingungen durch die Einführung des
Phononenbegriffs wesentlich erleichtert werden. Das Analogon dazu bei der
Beschreibung von oszillierenden Plasmen stellen die Plasmonen dar. Ein
Maß für die Bedeutung der Plasmonenstreuung ist die Resonanzfrequenz
dieser longitudinalen Eigenschwingungen
(1.79) |
Longitudinale Wellen in einem Plasma verursachen Ausdehnungen und Verdichtungen
in dem Elektronengas und zerstören dadurch die Ladungsneutralität.
Sie bringen dadurch Rückstellkräfte aufgrund der Coulomb-Wechselwirkung
ins Spiel. Die Plasmawellen werden durch schnelle Elektronen erzeugt, vergleichbar
mit der Entstehung starker Oberflächenwellen, die ein schnelles Boot
hinter sich erzeugt [KF89,Tom93].
Es sei
die Energie des Elektrons nach der Streuung, wobei das obere Vorzeichen
Absorption und das untere Emission eines Plasmons bedeutet. Weiters sei
die durchschnittliche Anzahl an Plasmonen der Frequenz
gegeben durch die Bose-Einstein Statistik
(1.80) |
Es wird eine Vielzahl möglicher Eigenfrequenzen des Plasmas durch
deren Resonanzfrequenz im thermodynamischen Gleichgewicht ersetzt. Wir
vernachlässigen also die q-Abhängigkeit von .
Eine weitere Schwierigkeit ergibt sich daraus, daß die Elektronentemperatur
bei hohen Feldern von der Gittertemperatur abweicht, wir aber a priori
keine Informationen darüber haben [MDB96].
Die Übergangswahrscheinlichkeit für Elektron-Plasmon-Streuung
lautet dann [JL89,PSB96]
(1.81) |
Die totale Streurate
für die Absorption (+) eines Plasmons ergibt sich durch Integration
von (1.81) integriert über alle möglichen
Endzustände
(1.82) |
Für die totale Streurate
für die Emission (-) eines Plasmons ergibt sich analog
(1.83) |
mit
(1.84) |
Der Energieerhaltungssatz beschränkt den möglichen Impulsübertrag auf das Intervall . Andererseits werden kollektive Anregungen für q>qc stark gedämpft. Da außerdem qc infolge starker Dämpfung in Si nur für cm-3 überhaupt definiert werden kann, ist der maximale Impulsübertrag nicht unumstritten [RH86]. In der Literatur findet man Werte im Bereich der inversen Abschirmlänge [LF85,Fis91], sodaß wir q-Werte größer als ausschließen (1.84). Um die Einführung eines Grenzwellenvektors zu umgehen, muß man den Real- und Imaginärteil der im allgemeinen frequenzabhängigen dielektrischen Funktion untersuchen [Rid93], welche die dielektrische Antwort eines Systems auf eine externe Ladung beschreibt. Leider sind viele Modelle für die dielektrische Funktion, die auf unterschiedliche Näherungen beruhen, bekannt [RH86].
Aus Abbildung 1.2 erkennt man, daß
bei etwa 1019 cm-3 ein Minimum entsteht. Dieses kommt
duch das Verschwinden der Plasmonstreuung zustande, wenn die Plasmaenergie
größer wird als die mittlere thermische Energie der Elektronen,
sodaß die Absorption oder Emission von Plasmonen durch Leitungselektronen
sehr unwahrscheinlich wird. Die Plasmonenstreuung ist ein stark anisotroper
Streuprozeß mit bevorzugter Vorwärtsstreuung. Für den Winkel
nach der Streuung ergibt sich mit Hilfe der direkten Methode der Ausdruck
[Tom93]
(1.85) |