Wie noch später näher ausgeführt wird, können Gitterlinien
während des Simulationslaufes zwar gelöscht, aber nicht wieder
eingefügt werden. Daher wird zu Beginn ein sehr feines,
äquidistantes Gitter kreiert. Der Abstand zweier benachbarter
Gitterlinien wird durch die minimale erwartete laterale
Standardabweichung 
bestimmt, um eine möglichst
optimale Auflösung des erwarteten Implantationsprofiles zu erreichen.
Derselbe Parameter () wird auch dazu benutzt, um die
Größe der Teilfenster für die Superpositionsmethode [Hob89]
und damit letztendlich auch den Eintrittsort der Ionen in das Target
zu bestimmen.
Wie sich zeigte, gewährleistet ein Gitterabstand von 
eine sehr gute Auflösung des Profils, während diese
Wahl andererseits auch die Anzahl der Eliminationsschritte minimiert.
Damit wird auch die Rechenzeit günstig beinflußt, weil ja bei jedem
Gitterupdate die Maßzahlen nach Abschnitt 4.3 neu
berechnet werden müssen. Die Wahl von 
in dieser Größenordnung
ist auch darin begründet, daß bei herkömmlichen Simulationen etwa
1000 bis 10000 Teilchen auf einem Abschnitt von
implantiert werden. Ein noch feineres Gitter wäre vom Standpunkt der
Statistik nicht sinnvoll.