Das strukturierende Element muß, je nachdem, ob es sich um Ätzung oder Deposition handelt, an unterschiedlichen Punkten der Oberfläche angreifen. Als Angriffspunkt stets den Mittelpunkt der betrachteten Oberflächenzelle zu wählen, würde für einen Ätzprozeß ungeachtet des Fehlers durch die Diskretisierung zu einem Positionsfehler der Ätzfront führen. Abbildung 3.13 zeigt den richtigen Ansatzpunkt für Ätzung und Deposition.
Abbildung 3.13: Der Ansatzpunkt des strukturierenden Elements; (a) Ätzung
und (b) Deposition.
Würde man auch für den Ätzvorgang den Mittelpunkt der Oberflächenzelle als Ansatzpunkt des strukturierenden Elements verwenden, so würden, wenn man Abbildung 3.13(b) betrachtet, im Falle einer Ätzung neun Zellen entfernt, im Falle einer Deposition jedoch nur vier Zellen aufgebracht werden. Da im diskutierten Fall die Ätzrate multipliziert mit dem Zeitschritt gleich der Länge zweier Zellseiten ist, muß die Oberfläche der Geometrie aber exakt um zwei Zellseiten fortschreiten. Für die Deposition ist das der Fall, wenn das strukturierende Element am Mittelpunkt der Oberflächenzelle angreift, für Ätzung, wenn das strukturierende Element am Mittelpunkt der benachbarten Vakuumzelle angreift. Falls eine Oberflächenzelle mit mehr als einer Zellseite an eine Vakuumzelle grenzt, so wird das strukturierende Element für einen Ätzvorgang an allen Mittelpunkten dieser Nachbarzellen angewendet.