Abbildung 3.16 zeigt ein Simulationsergebnis einer isotropen
Deposition bei vorgegebener konstanter Depositionsrate von 1 
.
Die Depositionszeit beträgt 0.25 Sekunden,
Abbildung 3.16 zeigt Simulationsergebnisse für die Zeitpunkte
und 
Sekunden.
Abbildung 3.16: Isotrope Deposition bei vorgegebener konstanter Depositionsrate.
Für die Simulation wird ein kreisförmiges strukturierendes Element verwendet. An konvexen Ecken der Simulationsgeometrie entstehen entsprechend der isotropen Bewegung der Oberflächenpunkte abgerundete Kanten, an konkaven Ecken bleibt die Form des Initialprofils vollständig erhalten. Bemerkenswert ist, daß das Simulationsverfahren ohne zusätzliche Modifikation auch das Auffüllen der Grabenstruktur richtig beschreibt. Oberflächen-Loops, die beim String-Algorithmus und wie auch beim Ray-Trace-Algorithmus in solchen Bereichen entstehen, werden hier inhärent vermieden.
Abbildung 3.17 zeigt das Simulationsergebnis eines einfachen
anisotropen Ätzprozesses. Die Ätzrate beträgt 1 in vertikaler
und 0.2 in lateraler Richtung. Die Ätzzeit wurde mit 0.25 Sekunden
vorgegeben, Abbildung 3.17 zeigt Simulationsergebnisse für die
Zeitpunkte und Sekunden.
Abbildung 3.17: Anisotropes Ätzen bei vorgegebener konstanter Ätzrate.
Das strukturierende Element nimmt für dieses Beispiel die Form einer Ellipse an, wobei die Haupt- und Nebenachse entsprechend den vorgegebenen Ätzraten gewichtet sind. Das Beispiel verdeutlicht, wie die Form des strukturierenden Elements das Ergebnis der Simulation beeinflußt.
Abbildung 3.18 zeigt Ätzen mehrerer Materialschichten, wobei die Ätzraten nach Tabelle 3.1 vorgegeben wurden. Die Ätzzeit beträgt 0.7 Sekunden, Abbildung 3.18 zeigt Ergebnisse für Zeitschritte von 0.1 Sekunden. Die Maske wird isotrop geätzt, die darunterliegenden Materialschichten anisotrop. Durch die laterale Ätzrate von
Tabelle: Vorgegebene Ätzraten in 
Abbildung 3.18: Ätzen mehrerer Materialschichten unter Vorgabe konstanter Ätzraten.
Abbildung 3.19: Unterätzung der Maske.
Materialschicht 1 entsteht eine Unterätzung der Maske (Abbildung 3.19). Bei genauerem Betrachten der Materialgrenze zwischen Materialschicht 1 und 2 in Abbildung 3.18 erkennt man, daß die Ätzfront beim Eintreten in die Materialschicht 2 durch die besondere Behandlung der Materialgrenzen gebremst wird.