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Dissertation E. Leitner
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7.2.6 Definition der zu
8 Anwendungen
8.1 Fertigung eines Isolationsgrabens
8.1.1 Definition der Ätzmaske
8.1.2 Formation des Grabens
8.1.3 Generierung eines Tetraedergitters
8.1.4 Ionenimplantation
8.1.5 Ausheilung des Implantationsschadens
8.2 Source-Drain Dotierung eines
MOSFET
8.3 Formierung eines
NMOS
-Transistors
8.3.1 Bauteilgeometrie
8.3.2 Einbringung der Source/Drain-Dotierungen
8.3.3 Einbringung der Kanal-Dotierungen
8.3.4 Simulation des Ausheilschrittes
Ernst Leitner
1997-12-30
NMOS-Transistors