DIE analytische Simulation der Ionen-Implantation ist die einfachste und schnellste Methode, um Implantationsprofile zu berechnen. Daher ist diese Technik auch praktisch in allen Prozeßsimulatoren enthalten. Insbesondere ist die analytische Implantation auch in folgenden Programmen implementiert: BICEPS [Pen83], COMPOSITE [Lor85], DIOS [Hün90], FEDSS [Sal83], IMPACT4 [Bac88], MEMBRE [Mur82], MIMAS [Paf90], MUSIC [Mij91], OPUS [Nis89], PEPPER [Mul89], PREDICT2 [Ros91], PROMIS [Pic85], RECIPE [Smi82], ROMANS [Mal83b], SMART-P [Oda88], SPIRIT [Ohg87], SUPREM II [Ant78], SUPREM III [Ho83], SUPREM IV [Law88], TITAN [Ger89].
Bei der Verwendung der Berechnung des Implantationsprofiles mit Hilfe analytischer Funktionen stößt man bald an Grenzen, wie in Abschnitt 3.5 noch gezeigt wird.