D I S S E R T A T I O N

Simulation of Ion Implantation for ULSI Technology

ausgeführt zum Zwecke der Erlangung des akademischen Grades
eines Doktors der technischen Wissenschaften
eingereicht an der Technischen Universität Wien
Fakultät für Elektrotechnik
von

Andreas Hössinger

Aspangstrasse 53/31
Wien III.

Matrikelnummer 8727546
geboren am 16. September 1969 in St. Pölten

Wien, im Juli 2000