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- Abschirmung
- Ionisierte Störstellen
| Verbesserungen am Modell der
| Verbesserungen am Modell der
- adiabatische Approximation
- 3 Fundamentale Halbleitereigenschaften
- akustische Deformationspotentialstreuung
- Akustische Phononen
- Al, Aluminium
- 1.1 III-V Halbleiter
- AlAs
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- AlGaAs
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- AlGaInAs
- Bandkanten
- 5.1.1 Materialabhängigkeit
- gitterangepaßt
- 3.4.2 Quaternäre Legierungen
- Amphoterizität
- Autokompensation
- Anion
- 1.1 III-V Halbleiter
| Notation
- Anisotropie
- longitudinal
- Verspannungsabhängigkeit im Hochfeldtransport
- transversal
- Verspannungsabhängigkeit im Hochfeldtransport
- Verspannung
- 6.1.8 Einfluß mechanischer Spannung
| Verspannungsabhängigkeit im Hochfeldtransport
| Verspannungsabhängigkeit im Hochfeldtransport
- annealing
- Relaxation mechanischer Spannung in
- As, Arsenide
- 1.1 III-V Halbleiter
| 6.1.7 Dotierungsabhängigkeit
| Beispiel GaAs
- Autokompensation
- Ionisierte Störstellen
| 6.1.7 Dotierungsabhängigkeit
| Autokompensation
| Beispiel GaAs
- band edge
- 3.2 Bandstruktur
- band gap
- 3.2 Bandstruktur
- band gap narrowing
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
| Entartungseffekte in der MC
- Banddiskontinuität
- 6.2 Banddiskontinuitäten an Heterogrenzschichten
- allgemeine Modelle
- 6.2.1 Allgemeine Modelle
- model-solid Ansatz
- Der ``model-solid'' Ansatz
- selbstkonsistente Modelle
- 6.2.2 Selbstkonsistente Rechnungen für spezielle
- Typ
- 6.2 Banddiskontinuitäten an Heterogrenzschichten
- Verspannung
- 6.2.4 Einfluß mechanischer Spannung GaInAs/GaAs
- Bandkanten
- 5.1 Bandkantenenergie
- Dotierungsabhängigkeit
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
| Entartungseffekte in der MC
- Gesamtmodell
- 5.1.5 Kombination
- hydrostatische Deformation
- Hydrostatische Verschiebung
- Materialeinfluß
- 5.1.1 Materialabhängigkeit
- Referenz
- 5.1 Bandkantenenergie
- Renormalisierung
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
- Temperatureinfluß
- 5.1.2 Temperaturabhängigkeit
- uniaxiale Deformation
- Uniaxiale Beiträge im Leitungsband
| Uniaxiale Beiträge im Valenzband
- Verspannung
- 5.1.4 Einfluß mechanischer Spannung
- Bandstruktur
- 3 Fundamentale Halbleitereigenschaften
| 3.2 Bandstruktur
- Berechnung
- 5.2.1 Die Methode
- Leitungsband
- 3.2 Bandstruktur
- , L, X Tal
- 3.2 Bandstruktur
- Monte Carlo
- 6.1.4 Monte Carlo Methode
- Valenzband
- 3.2 Bandstruktur
- Bauelementsimulation
- 2 Modellierung
- Beweglichkeit
- akustische Phononen
- Akustische Phononen
- analytische Berechnung
- 6.1.2 Analytische Lösung
- Definition
- 6.1 Elektronenbeweglichkeit
- Dotierungsabhängigkeit
- 6.1.7 Dotierungsabhängigkeit
- Feldabhängigkeit
- 6.1.9 Einfluß des elektrischen
- Modellierung
- Modellierung
- hot electrons
- 6.1.3 Numerische Lösung
- Ionisierte Störstellen
- Ionisierte Störstellen
- Legierungsinhomogenität
- Legierungsinhomogenität
- Materialeinfluß
- 6.1.5 Materialabhängigkeit
- Minorität
- Beweglichkeit von Minoritätselektronen.
- numerische Berechnung
- 6.1.3 Numerische Lösung
- Ohmscher Transport
- 6.1 Elektronenbeweglichkeit
- optische Phononen
- Optische Phononen
- Temperatureinfluß
- 6.1.6 Temperaturabhängigkeit
- Verspannung
- 6.1.8 Einfluß mechanischer Spannung
- warm electrons
- 6.1.3 Numerische Lösung
- biaxiale Verspannung
- 4.1.3 Mechanische Spannung
- binäre Halbleiter
- 1.2 Halbleiterlegierungen
- Blochfunktionen
- 5.2.1 Die Methode
- Bohrradius
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
- Boltzmanngleichung
- 6.1.1 Berechnung
- Bondlänge
- 6.2.4 Einfluß mechanischer Spannung GaInAs/GaAs
- bowing factor
- 4.1.1 Ternäre Legierungen
| 5.1.1 Materialabhängigkeit
| A Materialparameter
- Brillouinzone
- 3.1 Kristallstruktur
- Brooks-Herring Modell
- Ionisierte Störstellen
- Burger's vector
- Relaxation mechanischer Spannung in
- Burstein-Moss Effekt
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
- C, Kohlenstoff
- Autokompensation
- coherent growth
- 1.3.2 Verspannte Schichten
- common anion rule
- 6.2.1 Allgemeine Modelle
- conductivity mass
- 5.2 Effektive Masse
- Conwell-Weisskopf Modell
- Ionisierte Störstellen
- Deaktivierung
- Ionisierte Störstellen
| 6.1.7 Dotierungsabhängigkeit
- Deformationspotential
- Der ``model-solid'' Ansatz
- Deformationspotentialtheorie
- 5.1.4 Einfluß mechanischer Spannung
- Dehnungstensors
- 4.1.3 Mechanische Spannung
- Deltadotierung
- 1.3.2 Verspannte Schichten
- DH, double heterojunction
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- Dirac Notation
- 5.2.1 Die Methode
- dislocations
- Relaxation mechanischer Spannung in
- Doppelbarrierenstruktur
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- DOS mass
- 5.2 Effektive Masse
| 5.2.5 Einfluß mechanischer Spannung
| 6.1.8 Einfluß mechanischer Spannung
- Drift-Diffusions Modell
- 6 Zusammengesetzte Größen
| Modellierung
- DX Zentren
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- effektive Masse
- 3.2 Bandstruktur
| 5.2 Effektive Masse
| 5.2.1 Die Methode
- Dotierungsabhängigkeit
- 5.2.4 Dotierungsabhängigkeit
| Entartungseffekte in der MC
| Beispiel GaAs
- Gesamtmodell
- 5.2.6 Kombination
- Materialabhängigkeit
- 5.2.2 Materialabhängigkeit
- Temperaturabhängigkeit
- 5.2.3 Temperaturabhängigkeit
- Verspannung
- 5.2.5 Einfluß mechanischer Spannung
- effektiven Masse Approximation
- 5.2 Effektive Masse
| 5.2.1 Die Methode
- Einfachbarrierenstruktur
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- Elektronegativität
- 5.1.1 Materialabhängigkeit
- Elektronentemperatur
- 6.1.2 Analytische Lösung
| Beispiel GaAs
| Ein hydrodynamisches Beweglichkeitsmodell für GaInAs
- Elementarzelle
- 3.1 Kristallstruktur
- Energierelaxationszeit
- Modellierung
| Ein hydrodynamisches Beweglichkeitsmodell für GaInAs
- Energietransportmodell
- 6 Zusammengesetzte Größen
- Entartung
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
- Monte Carlo
- Entartungseffekte in der MC
- Störstellen
- Entartungseffekte in der MC
- Epitaxie
- 1.3 Heterostrukturen
| 1.3 Heterostrukturen
-
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- Fermi-Dirac
- 6.1.1 Berechnung
| Entartungseffekte in der MC
| Entartungseffekte in der MC
- Integral
- 3.2.1 Statistik der Ladungsträger
| Beispiel GaAs
-
- 1.3.2 Verspannte Schichten
- Formfaktor
- Verbesserungen am Modell der
| Beispiel GaAs
| Beweglichkeit von Minoritätselektronen.
-
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
| 1.3.2 Verspannte Schichten
- Ga, Gallium
- 1.1 III-V Halbleiter
- GaAs
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
| Beispiel GaAs
| A Materialparameter
- GaInAs
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- GaInPAs
- Bandkanten
- 5.1.1 Materialabhängigkeit
- gitterangepaßt
- 3.4.2 Quaternäre Legierungen
- Ge, Germanium
- 1.1 III-V Halbleiter
| Autokompensation
- Gitteranpassung
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- Gitterfehlanpassung
- 4.1.3 Mechanische Spannung
- Gitterkonstante
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
-
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- Grenzflächenstreuung
- Zusätzliche Einflüsse in Bauelementen
- Größe
- abgeleitet
- 2.1 Größenhierarchie
| 5 Abgeleitete Größen
- abhängig
- 2.1 Größenhierarchie
| 2.3 Berücksichtigte Größen
- fundamental
- 2.1 Größenhierarchie
| 4 Fundamentale Größen
| 4.1 Modellierung
- konstitutiv
- 2.1 Größenhierarchie
| 2.3 Berücksichtigte Größen
- unabhängig
- 2.1 Größenhierarchie
| 2.3 Berücksichtigte Größen
- zusammengesetzt
- 2.1 Größenhierarchie
| 6 Zusammengesetzte Größen
- äußere
- 2.1 Größenhierarchie
| 2.3 Berücksichtigte Größen
- Größenhierarchie
- 2.1 Größenhierarchie
- Hamilton Operator
- 5.2.1 Die Methode
- HBT
- 1.3 Heterostrukturen
| 1.3.2 Verspannte Schichten
-
- 1.3.2 Verspannte Schichten
-
- 1.3.2 Verspannte Schichten
- Anwendungen
- 1.3.2 Verspannte Schichten
- pseudomorph
- 1.3.2 Verspannte Schichten
- heavy hole
- 3.2 Bandstruktur
- HEMT
- 1.3 Heterostrukturen
-
- 1.3.2 Verspannte Schichten
-
- 1.3.2 Verspannte Schichten
- AlGaAs/GaAs
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- AlGaAs/GaInAs
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- AlInAs/GaInAs
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
| 1.3.2 Verspannte Schichten
- GaInAs/GaAs
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- pseudomorph
- 1.3.2 Verspannte Schichten
- Heterostrukturen
- 1.3 Heterostrukturen
- HFET
- 1.3 Heterostrukturen
- Anwendungen
- 1.3.2 Verspannte Schichten
- pseudomorph
- 1.3.2 Verspannte Schichten
- hopping conduction
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
- hydrodynamisches Modell
- 6 Zusammengesetzte Größen
| Modellierung
- I-VII Halbleiter
- 1.1 III-V Halbleiter
- II-VI Halbleiter
- 1.1 III-V Halbleiter
- III-V Halbleiter
- 1.1 III-V Halbleiter
- Impulsoperator
- 5.2.1 Die Methode
- Impulsrelaxationszeit
- 6.1.2 Analytische Lösung
| Modellierung
- impurity band
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
- In, Indium
- 1.1 III-V Halbleiter
- InAs
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
| 6.1.9 Einfluß des elektrischen
| A Materialparameter
- InP
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- Interpolation
- 4.1 Modellierung
- Ionisierungsenergie
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
| Entartungseffekte in der MC
- Ionisierungsgrad
- Entartungseffekte in der MC
- Isolator-Metall Übergang
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
- IV-VI Halbleiter
- 1.1 III-V Halbleiter
- Kane function
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
- Kation
- 1.1 III-V Halbleiter
| Notation
- kohärentes Wachstum
- 1.3.2 Verspannte Schichten
- Kommutativität
- 6.2.1 Allgemeine Modelle
- Kompensation
- 6.1.7 Dotierungsabhängigkeit
| Beispiel GaAs
- Methode
- 5.2.1 Die Methode
- Kristallstruktur
- 3 Fundamentale Halbleitereigenschaften
| 3.1 Kristallstruktur
- kritische Schichtdicke
- Relaxation mechanischer Spannung in
- Laser
- 1.3 Heterostrukturen
- Legierung
- 1.2 Halbleiterlegierungen
| 3.4 Legierungen
- Definition
- 3.4 Legierungen
- Konzentration
- 3.4 Legierungen
| Notation
- Notation
- Notation
- perfekt
- 3.4 Legierungen
- quaternär
- 3.4.2 Quaternäre Legierungen
- Typ I
- 3.4.2 Quaternäre Legierungen
- Typ II
- 3.4.2 Quaternäre Legierungen
- ternär
- 3.4.1 Ternäre Legierungen
- Typ
- Notation
- Legierungsstreuung
- 3.4 Legierungen
| Legierungsinhomogenität
| 6.1.5 Materialabhängigkeit
| 6.1.9 Einfluß des elektrischen
- light hole
- 3.2 Bandstruktur
- Linienversetzungen
- Relaxation mechanischer Spannung in
- LPE
- 1.3 Heterostrukturen
- many body effects
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
- Matrixelement
- 5.2.1 Die Methode
| 5.2.1 Die Methode
- Matthiessen-Regel
- 6.1.2 Analytische Lösung
| Kombinierte Beweglichkeit
| 6.1.5 Materialabhängigkeit
- maximale Schwingfrequenz
- 1.3.2 Verspannte Schichten
- Maxwell-Boltzmann
- 6.1.1 Berechnung
| 6.1.2 Analytische Lösung
| Ein hydrodynamisches Beweglichkeitsmodell für GaInAs
- MBE
- 1.3 Heterostrukturen
- mechanische Spannung
- 4.1.3 Mechanische Spannung
- Relaxation
- Relaxation mechanischer Spannung in
- misfit
- 4.1.3 Mechanische Spannung
- MOCVD
- 1.3 Heterostrukturen
- model-solid
- Der ``model-solid'' Ansatz
| 6.2.3 Gitterangepaßter Fall -
| 6.2.4 Einfluß mechanischer Spannung GaInAs/GaAs
- Modell
- Definition
- 2 Modellierung
- heuristisch
- 2.2 Modellhierarchie
- physikalisch
- 2.2 Modellhierarchie
- theoretisch
- 2.2 Modellhierarchie
- Modellhierarchie
- 2.2 Modellhierarchie
- MODFET
- 1.3 Heterostrukturen
- Modularisierung
- 2.2 Modellhierarchie
- mole fraction
- 3.4 Legierungen
- Moment
- 6.1.1 Berechnung
- Monte Carlo
- 6.1.4 Monte Carlo Methode
- Ein-Partikel
- 6.1.4 Monte Carlo Methode
- Ensemble
- 6.1.4 Monte Carlo Methode
- Entartung
- Entartungseffekte in der MC
- parameterfrei
- 6.1.4 Monte Carlo Methode
- Vollband
- 6.1.4 Monte Carlo Methode
- Mott Übergang
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
| Entartungseffekte in der MC
- N, Nitride
- 1.1 III-V Halbleiter
- Nichtparabolizität
- 3.2 Bandstruktur
| 5.2.4 Dotierungsabhängigkeit
| 6.1.5 Materialabhängigkeit
| Beispiel GaAs
- optische Deformationspotentialstreuung
- Optische Phononen
- P, Phosphide
- 1.1 III-V Halbleiter
| 6.1.7 Dotierungsabhängigkeit
| Beispiel GaAs
- Pauli Prinzip
- 6.1.1 Berechnung
| Entartungseffekte in der MC
| Beispiel GaAs
- Peierlsche Reibung
- Relaxation mechanischer Spannung in
- Phononen
- 3 Fundamentale Halbleitereigenschaften
| 3.3 Phononen
- akustisch
- 3.3 Phononen
- longitudinal
- 3.3 Phononen
- optisch
- 3.3 Phononen
- transversal
- 3.3 Phononen
- Phononenstreuung
- 3.3 Phononen
- piezoelektrische Streuung
- Akustische Phononen
- Plasmafrequenz
- Plasmaschwingungen
- Plasmonen
- Plasmaschwingungen
| Beweglichkeit von Minoritätselektronen.
- Poissonzahl
- 4.1.3 Mechanische Spannung
- polar-optische Phononenstreuung
- Optische Phononen
- PPC, persistent photoconductivity
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- pseudomorph
- 1.3.2 Verspannte Schichten
| Relaxation mechanischer Spannung in
| 6.1.8 Einfluß mechanischer Spannung
- Pseudopotentialmethode
- 3.2 Bandstruktur
- Quantisierung
- Zusätzliche Einflüsse in Bauelementen
- quantum dots
- Relaxation mechanischer Spannung in
- quaternäre Halbleiter
- 1.2 Halbleiterlegierungen
- random alloy
- 3.4 Legierungen
- Rauschzahl
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- relaxation time approximation
- 6.1.2 Analytische Lösung
- Relaxationszeit
- 6.1.2 Analytische Lösung
- residual strain
- Relaxation mechanischer Spannung in
- Sättigungsgeschwindigkeit
- 6.1.9 Einfluß des elektrischen
- Sb, Antimonide
- 1.1 III-V Halbleiter
- Schrödingergleichung
- 3.2 Bandstruktur
| 5.2.1 Die Methode
- SH, single heterojunction
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- Si, Silizium
- 1 Einleitung
| Autokompensation
| Beispiel GaAs
| 6.1.9 Einfluß des elektrischen
- Sn, Zinn
- Autokompensation
- split-off band
- 3.2 Bandstruktur
- Materialeinfluß
- 5.1.1 Materialabhängigkeit
- Statistik
- Bose-Einstein
- 3.3 Phononen
- Fermi-Dirac
- 3.2.1 Statistik der Ladungsträger
- Ladungsträger
- 3.2.1 Statistik der Ladungsträger
- Maxwell-Boltzmann
- 3.2.1 Statistik der Ladungsträger
- Steilheit
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- Stoßionisation
- 6.1.9 Einfluß des elektrischen
- Stoßionisation
- 6.1.3 Numerische Lösung
- strain relaxation
- Relaxation mechanischer Spannung in
- strained layer
- 1.3.2 Verspannte Schichten
| 4.1.3 Mechanische Spannung
- Stranski-Kastranov Wachstum
- Relaxation mechanischer Spannung in
- Streuamplitude
- Verbesserungen am Modell der
- Streuquerschnitt
- Verbesserungen am Modell der
- Streurate
- 6.1.1 Berechnung
| Verbesserungen am Modell der
- Streutheorie
- 3 Fundamentale Halbleitereigenschaften
- Streuwahrscheinlichkeit
- 6.1.1 Berechnung
- Störstellen
- flach
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
- Ionisierungsenergie
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
- Störungstheorie
- 5.2.1 Die Methode
- superlattice
- 3.4 Legierungen
| Legierungsinhomogenität
- tail states
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
- ternäre Halbleiter
- 1.2 Halbleiterlegierungen
- Thomas-Fermi Atommodell
- Verbesserungen am Modell der
- Transitfrequenz
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- Transitivität
- 6.2.1 Allgemeine Modelle
- trap
- 1.3.1 Gitterangepaßte Strukturen
- Übergitter
- 3.4 Legierungen
- Varshni Parameter
- 5.1.2 Temperaturabhängigkeit
- Vegardsches Gesetz
- 4.1.1 Ternäre Legierungen
- Verbindungshalbleiter
- 1 Einleitung
- verspannte Schichten
- 1.3.2 Verspannte Schichten
- Verteilungsfunktion
- 6.1.1 Berechnung
- Vielteilcheneffekt
- 5.1.3 Dotierungsabhängigkeit
| 5.2.4 Dotierungsabhängigkeit
- virtuelles Substrat
- 1.3.2 Verspannte Schichten
- warped band
- 3.2 Bandstruktur
- Zustandsdichte
- 3.2.1 Statistik der Ladungsträger
| 5.2.4 Dotierungsabhängigkeit
- effektiv
- 3.2.1 Statistik der Ladungsträger
- Zwischentalstreuung
- 6.1.9 Einfluß des elektrischen
| Verspannungsabhängigkeit im Hochfeldtransport
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Christian Koepf
1997-11-11